哈特曼线检测

检测项目

1.哈特曼线波长范围：400-1100nm（±2nm）

2.线宽均匀性：≤0.5μm/m²（GB/T10610-2009）

3.边缘对比度：≥85%（ISO14978:2018）

4.几何畸变率：≤0.03%（ASTMF533-08）

5.基底粗糙度：Ra≤0.02μm（ISO4287:1997）

检测范围

1.光学玻璃基底元件（透镜、棱镜等）

2.III-V族半导体晶圆（GaAs、InP等）

3.MEMS器件表面微结构

4.金属薄膜涂层（Al/Cu/TiN等）

5.光刻胶图形化表面

检测方法

1.激光干涉法：ASTMF1811-18规定的四步相移干涉技术

2.白光垂直扫描法：ISO25178-604:2013非接触式三维测量

3.原子力显微术：GB/T31227-2014纳米级表面形貌分析

4.共聚焦显微测量：ISO25178-607:2019光学切片技术

5.X射线反射法：ASTMB934-20薄膜厚度与粗糙度联测

检测设备

1.ZygoNewView9000：白光干涉三维形貌仪（垂直分辨率0.1nm）

2.VeecoNT9800：相移干涉光学系统（波长632.8nm）

3.BrukerContourGT-X3：显微三维轮廓仪（50×~150×物镜）

4.OlympusLEXTOLS5000：激光共聚焦显微镜（12000×放大倍率）

5.KLA-TencorP-17：表面轮廓仪（0.05nm纵向分辨率）

6.Keysight5500AFM：原子力显微镜（扫描范围90μm×90μm）

7.PanasonicUA3P：超高精度三维测量机（重复精度±3nm）

8.MitutoyoSJ-500：表面粗糙度仪（16mm量程）

9.NikonNEXIVVM-300：视频测量系统（双远心镜头）

10.ShimadzuXRD-7000：X射线衍射仪（Cu靶Kα辐射源）

北京中科光析科学技术研究所【简称：中析研究所】

报告：可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期：7~15工作日，可加急。

资质：旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试：严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试：支持定制化试验方案。

售后：报告终身可查，工程师1v1服务。

注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情，因时间等不可抗拒因素会发生变更，请咨询在线工程师.