检测项目
1.化学成分分析:Cu含量(65-70%)、P含量(15-20%)、杂质元素(Fe≤0.05%、Ni≤0.03%)
2.晶体结构表征:XRD衍射角(2θ=43.30.2)、晶格常数(a=3.6150.005)
3.涂层厚度测定:覆盖层厚度(5-50μm)、均匀性偏差(≤1.5μm)
4.表面形貌分析:孔隙率(≤0.5%)、粗糙度Ra值(0.2-1.6μm)
5.电化学性能测试:腐蚀电流密度(≤110⁻⁶A/cm)、极化电阻(≥110⁴Ωcm)
6.热稳定性测试:相变温度(≥350℃)、热膨胀系数(14.510⁻⁶/℃0.5)
检测范围
1.电子元件基材:印刷电路板表面处理层、集成电路导电层
2.金属涂层材料:防腐镀层、耐磨复合涂层
3.电池材料体系:锂离子电池负极涂层、固态电解质界面层
4.催化功能材料:电催化析氢电极、光催化复合材料
5.半导体器件:薄膜晶体管栅极层、光伏器件缓冲层
检测方法
1.ASTME975-20金属材料X射线衍射定量相分析方法
2.ISO16700:2019扫描电子显微镜校准与操作规范
3.GB/T4334-2020金属材料实验室均匀腐蚀全浸试验方法
4.ASTMB568-98(2021)X射线荧光光谱法测定涂层厚度标准
5.GB/T4340.1-2009金属维氏硬度试验方法
6.ISO17475:2005电化学阻抗谱测量技术规范
检测设备
1.RigakuSmartLabX射线衍射仪:配备HyPix-3000探测器,角度分辨率0.0001
2.JEOLJSM-IT800扫描电镜:分辨率1nm@15kV,配备牛津X-MaxN80能谱仪
3.PARSTAT4000电化学工作站:频率范围10μHz-1MHz,电流分辨率10fA
4.FischerXDV-SDDX荧光测厚仪:测量精度0.5μm@50μm量程
5.NetzschSTA449F3同步热分析仪:温度范围RT-1600℃,TG分辨率0.1μg
6.BrukerContourGT-K光学轮廓仪:垂直分辨率0.01nm,扫描速度500μm/s
7.Metrohm905Titrando自动电位滴定仪:分辨率0.1μL,支持库仑法测定P含量
8.Agilent7900ICP-MS:检出限低至ppt级,用于痕量杂质元素分析
9.KeysightE4990A阻抗分析仪:频率范围20Hz-120MHz,基本精度0.045%
10.MalvernMastersizer3000激光粒度仪:测量范围0.01-3500μm,重复性误差<0.5%
北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).
CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师.
合作客户(部分)
1、自改制以来和政、企、军多方多次合作,并获得众多好评;
2、始终以"助力科学进步、推动社会发展"作为研究院纲领;
3、坚持科学发展道路,统筹实验建设与技术人才培养共同发展;
4、学习贯彻人大精神,努力发展自身科技实力。