检测项目
1. 纯度分析:总杂质含量≤10ppm(ICP-MS法),特定金属杂质(Fe、Ni、Cu)≤0.5ppm
2. 晶体结构完整性:XRD半峰宽≤0.02°,位错密度<103 cm-2
3. 表面缺陷检测:微孔直径≤5μm(SEM观测),表面粗糙度Ra≤0.1μm
4. 元素分布均匀性:纵向浓度梯度≤±2%(EPMA线扫描)
5. 热稳定性测试:熔点偏差≤±1℃,热膨胀系数(20-500℃)波动<5%
检测范围
1. 半导体材料:硅单晶(Φ200mm)、砷化镓晶圆
2. 金属单晶:高纯铝(5N)、钛合金定向凝固件
3. 光学晶体:蓝宝石衬底(C面)、氟化钙窗口片
4. 超导材料:YBCO单畴块材、MgB2线材
5. 特种陶瓷:氮化铝基板(96%纯度)、氧化锆结构件
检测方法
1. ASTM E112-13 晶粒度测定方法
2. ISO 17025:2017 实验室能力通用要求
3. GB/T 13301-2019 金属材料杂质光谱分析法
4. ASTM F1241-22 半导体晶体缺陷表征规程
5. GB/T 25915.1-2021 洁净室悬浮粒子浓度监测
6. ISO 14707:2021 辉光放电质谱表面分析
7. ASTM E2867-14 X射线能谱定量分析标准
检测设备
1. 场发射扫描电镜(FE-SEM):Hitachi SU5000,分辨率0.8nm@15kV
2. X射线衍射仪:Rigaku SmartLab 9kW,角度重复性±0.0001°
3. 电感耦合等离子体质谱仪:Agilent 8900 ICP-MS/MS,检出限<0.1ppt
4. 电子探针显微分析仪:JEOL JXA-8530F Plus,束斑尺寸50nm
5. 激光共聚焦显微镜:Olympus LEXT OLS5000,Z轴分辨率10nm
6. 热分析系统:NETZSCH STA 449 F5 Jupiter®,温度精度±0.1℃
7. 辉光放电质谱仪:Thermo Scientific GD-MS Pro, 检出限<0.01ppb
8. X射线荧光光谱仪:Bruker S8 TIGER Series4, 元素范围Be-U
9. 原子力显微镜:Bruker Dimension Icon, 扫描范围90μm×90μm
10.低温霍尔效应测试系统:Lake Shore 8404 Series, 温度范围4K-325K
北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).
CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师.
合作客户(部分)
1、自改制以来和政、企、军多方多次合作,并获得众多好评;
2、始终以"助力科学进步、推动社会发展"作为研究院纲领;
3、坚持科学发展道路,统筹实验建设与技术人才培养共同发展;
4、学习贯彻人大精神,努力发展自身科技实力。