空位形成能检测

检测项目

1. 空位浓度测定：测量范围1×10¹⁵~1×10²⁰ cm⁻³，精度±3%

2. 空位迁移活化能分析：温度范围300-1500K，分辨率±0.05eV

3. 空位形成焓测量：量程0.1-5.0eV/atom，重复性误差≤1.5%

4. 空位扩散系数测试：覆盖10⁻²⁰~10⁻¹² m²/s量级

5. 空位-杂质复合体表征：空间分辨率≤0.5nm

检测范围

1. 金属合金体系：铝合金（AA6061/7075）、钛合金（Ti-6Al-4V）、高温镍基合金

2. 半导体材料：硅晶圆（掺杂浓度1×10¹⁴~1×10¹⁹ cm⁻³）、GaN外延片

3. 陶瓷材料：氧化铝（Al₂O₃）、碳化硅（4H-SiC/6H-SiC）

4. 功能薄膜：物理气相沉积硬质涂层（TiN/AlCrN）

5. 核用材料：锆合金包壳管（Zr-2/Zr-4）

检测方法

1. ASTM E1461-13 闪光法测定热扩散率推算空位浓度

2. ISO 17091:2015 二次离子质谱法定量分析轻元素空位

3. GB/T 13301-2017 金属材料电子空穴浓度测定通用方法

4. ASTM F76-08(2020) 半导体晶体的霍尔效应测试规程

5. GB/T 38976-2020 硅单晶中氧含量与空位缺陷测试方法

检测设备

1. FEI Quanta 650 FEG场发射扫描电镜：配备EDAX TEAM EDS系统，实现纳米级缺陷观测

2. Netzsch LFA 467 HyperFlash®：闪光法热扩散率测量系统，温度范围-120~2800℃

3. Bruker D8 ADVANCE X射线衍射仪：配置LYNXEYE XE-T探测器，可进行高温原位测试

4. ORTEC Positron Lifetime Spectrometer：时间分辨率220ps正电子寿命谱仪

5. Lake Shore 8400系列霍尔效应测试系统：磁场强度0~2T，温度范围10~800K

6. Cameca IMS 7f-auto SIMS：质量分辨率M/ΔM≥20,000的二次离子质谱仪

7. Oxford Instruments Gatan Plasma FIB：氙等离子体双束电镜系统

8. Thermo Fisher DXR3 Raman显微镜：532nm激光光源搭配低温样品台

9. Keysight B1500A半导体参数分析仪：支持AC/DC IV/CV特性测试

10. Anton Paar HTK 1200N高温炉系统：最高温度1600℃，真空度≤5×10⁻⁶ mbar

北京中科光析科学技术研究所【简称：中析研究所】

报告：可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期：7~15工作日，可加急。

资质：旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试：严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试：支持定制化试验方案。

售后：报告终身可查，工程师1v1服务。

注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情，因时间等不可抗拒因素会发生变更，请咨询在线工程师.