抛光粉稀土检测

中析研究所实验室进行的抛光粉稀土检测，会为您提供抛蚀量、物理性能等检测服务，并出具严谨、合规、标准的第三方检测报告。

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参考周期:常规测试7-15工作日,加急测试5个工作日.

检测范围

氧化铈、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆、氧化铬等抛光粉稀土等。

• 玻璃抛光粉：用于光学玻璃、手机屏幕、手表镜片等抛光的材料。
• 陶瓷抛光粉：用于陶瓷制品、精密陶瓷零件等的表面抛光。
• 金属抛光粉：适用于金属工件的表面精细抛光，尤其是精密加工领域。
• 电子元件抛光粉：应用于液晶面板、半导体晶圆的抛光材料。
• 其他精密抛光粉：包括高端手表、相机镜头等高精度要求的抛光材料。

检测项目

抛蚀量检测、划伤率、烧灼产物检测、密度、杂质、磨削率检测、成分分析、硬度、化学活性检测、稳定性、中心粒径、比放射性、悬浮液PH值、最大粒径、真密度、研磨性能、外观、物理性能检测、腐蚀性、耐高压强度、耐酸碱性能检测。

化学成分分析：REO、CeO2、REF3、REOF、F等质量分数。

• 氧化铈含量：氧化铈是抛光粉中最常见的稀土成分，其含量会直接影响抛光粉的研磨效率和表面光洁度。
• 氧化镧和氧化钕含量：氧化镧和氧化钕等稀土元素可以改善抛光粉的硬度、耐久性和抗静电性能。
• 稀土总含量：稀土总含量是测试抛光粉质量的关键指标之一，通常通过测量稀土氧化物的总量来确定。
• 杂质元素含量：铝、钙、硅等杂质元素会影响抛光效果和稳定性，因而需要测定抛光粉中的杂质含量。
• 粒度分布：粒度分布直接影响抛光效果，合理的粒度分布可以提高抛光粉的研磨效率。

检测方法

针对抛光粉中的稀土成分，常用的检测方法包括：

• X射线荧光光谱法 (XRF)：通过X射线照射样品，测量其产生的荧光来分析稀土元素的成分和含量。XRF的优势在于检测速度快、样品制备简单，适用于大批量快速筛查。
• 感应耦合等离子体质谱法 (ICP-MS)：利用等离子体将样品分解为原子和离子，并通过质谱分析进行检测。ICP-MS具有极高的灵敏度和准确性，适用于测定极低浓度的稀土元素。
• 电感耦合等离子体发射光谱法 (ICP-OES)：采用电感耦合等离子体将样品加热蒸发，通过光谱仪测量元素的发射光谱。该方法适合多种元素的同步检测，是常用的稀土元素定量分析方法。
• 激光剥蚀-电感耦合等离子体质谱法 (LA-ICP-MS)：通过激光剥蚀将样品表面物质气化，进入质谱进行分析。该方法具有极高的空间分辨率，适合对样品的微区分析。

北京中科光析科学技术研究所(简称中化所)，为集体所有制单位，是以科研检测为主的科学技术研究机构。

检测仪器

为保障检测数据的准确性，通常使用以下高精密仪器进行稀土检测：

• 荧光光谱仪：用于X射线荧光光谱法 (XRF) 分析，适合测量抛光粉中稀土元素的含量。
• ICP-MS 质谱仪：感应耦合等离子体质谱仪 (ICP-MS) 具有极高的灵敏度，能精确检测低浓度稀土元素。
• ICP-OES 光谱仪：电感耦合等离子体发射光谱仪 (ICP-OES) 用于同步检测多种稀土成分。
• LA-ICP-MS 系统：配备激光剥蚀装置的ICP-MS系统，用于对样品的表面微区稀土成分检测，确保检测的局部精准性。

参考标准

GB/T 20165-2012 稀土抛光粉

GB/T 4148-2015 混合氯化稀土

GB/T 16661-2018 碳酸铈

GB/T 17803-2015 稀土产品牌号表示方法

GB/T 20166.1-2012 稀土抛光粉化学分析方法 第1部分：氧化铈量的测定 滴定法

GB/T 20166.2-2012 稀土抛光粉化学分析方法 第2部分：氟量的测定 离子选择性电极法

GB/T 20167-2012 稀土抛光粉物理性能测试方法 抛蚀量和划痕的测定 重量法

GB 29435-2012 稀土冶炼加工企业单位产品能源消耗限额

GB 39176-2020 稀土产品的包装、标志、运输和贮存

GB/T 870 值修约规则与极限数值的表示a判定

GB/T126902 稀土金属及其氧化物中非稀土杂质化学分析方法重量法定 土氧化物中灼减量

GB/T 12690.3 稀土金属及某氧化物中非稀土杂质化学分析方法 重量法测定稀上氧化物中水分量

GB/T1463.5 灯用稀土三基色荧光粉试验方法 第5部：密度的测定

GB/T1463 稀土金属及其化合物化学分析方法

GB/T 201661 稀土地光粉化学分析方法 包化t量的测定 滴定法

GB/T 2066.2 稀土抛光粉化学分析方法 氟量的测定 离子选择性电板法

GB/T 2018 土抛光粉物理性能试验方法 抛蚀量和划痕的测定 法

GB/T 201701t 金属及其化合物物理性能测试方法 稀土化合物 度分布的测定

T/ACREI 34001-2017 盖板玻璃抛光用稀土抛光粉

XB/T 229-2018 铈镨氧化物

XB/T 233-2020 镧铈氧化物

注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).